『壹』 光刻机股票龙头股有哪些
1、大族激光(002008):2020年6月17日公司在互动平台称:公司在研光刻机项目分辨率3- 5μm,主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用,今年有望实现小批量销售。 2、张江高科(600895):公司在互动平台表示,上海张江浩成创业投资有限公司2016年投资了 上海微电子装备有限公司22,345万元,投资比例为10.779%。 3、晶方科技(603005):公司在互动平台表示,荷兰光刻机制造商ASML为公司参与并购的荷兰 Anteryon公司的最主要客户之一。Anteryon为全球同时拥有混合镜头、晶圆级微型光学器件工艺 技术设计、特性材料及量产能力的技术创新公司,其产品可广泛应用于半导体精密设备、工业自 动化、汽车、安防、3D传感器为代表的消费类电子等应用领域。 4、赛微电子(300456):公司在互动易平台披露:公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系 统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务。ASML为公司商业合作伙伴。公司瑞典与北京分别拥有 数台光刻机;瑞典产线2017-2019年产能利用率一直保持在80%以上的高水平 5、万业企业(600641):全资子公司凯世通采取“领先一步”的策略、采用有国际竞争力的设 计理念,着力研制16纳米及以下制程的FinFET集成电路离子注入机,并针对研制低能大束流离子 注入机所需要解决的关键技术和技术难点,建立起相应的研发平台、相关核心关键技术及工艺的 研究参数数据库和性能检测规范标准。2019年凯世通的低能大束流离子注入机迁机成功,顺利进 入离子注入晶圆验证阶段。参股公司上海半导体装备材料基金持有华卓精科2.08%股权。 6、上海新阳(300236):公司在互动易平台表示,中芯国际是公司的主要客户之一。2020年2 月,公司在互动易平台披露,公司KRF光刻机能支持96层3D NAND用光刻胶研究,及250nm、 130nm工艺制程逻辑电路用光刻胶研究。公司正在加快开发第三大核心技术——光刻技术,在集 成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时,积极布局半导体 硅片、半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶等业务领域。 7、南大光电(300346):超募资金投资”ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目。 8、飞凯材料(300398):公司从事PCB光刻胶专用化学品。 9、胜利精密(002426):胜利精密计划募资不超过20亿元,投向光刻机产业化。 10、华特气体(688268):华特气体是特种气体龙头企业。 11、福晶科技(002222):公司是全球最大的LBO、BBO晶体供应商,也是全球重要的Nd: YVO4晶体供应商,控股子公司青岛海泰光电技术有限公司是国内最大的KTP晶体生产商。公司产 品已被全球各大激光器公司广泛采用,公司与客户建立了良好的合作关系,在客户中享有良好的 声誉,并树立了良好的品牌形象。公司品牌“CASTECH”已在全球激光界树立了高技术、高品 质、优服务的市场形象,核心产品被国际业界誉为“中国牌晶体”。 12、智光电气(002169):粤芯采购的是荷兰ASML阿斯麦公司的光刻机。智光电气间接持有粤 芯半导体股权。 13、容大感光(300576):公司为拓展业务范围及产品应用领域,投资设立控股子公司上海芯刻微 材料技术有限责任公司进行193nm干法光刻胶研发及产业化项目。 14、强力新材(300429):公司从事PCB刻胶专用化学品。 15、晶瑞股份(300655):该公司光刻胶产品已经通过中芯国际上线测试并取得订单。 16、光华科技(002741):针对面板行业对光阻材料的巨大需求,公司引入韩国光阻材料供应商 SMS、KISCO、DKC,国内部分客户已进入材料打样测试认证阶段,下一步公司将配合客户逐步 实现量产。 17、蓝英装备(300293)公司在互动平台称:公司瑞士子公司UCMAG主要为光学和精密仪器行 业提供清洗设备。对于精密光学、医学工程、精密机械以及PVD、CVD涂层前清洗等典型的清洁 度要求最高的应用领域,公司在精密清洗业务板块的代表产品UCM系统可提供全套个性化的设备 及解决方案。凭借行业领先的技术实力,UCMAG为ASML(荷兰光刻机制造商阿斯麦公司)及其 供应商提供极紫外光刻机(EUV)的光学系统相关关键部件的清洗设备。 18、江化微(603078):公司孙公司无锡澄泓生产的产品主要是光刻胶剥离液,目前主要用在液 晶面板领域。 19、高盟新材(300200):公司主营业务为超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等湿电子化学品的研 发、生产和销售。 20、奥普光电(002338):公司从事的主要业务为光电测控仪器设备、光学材料和光栅编码器等 产品的研发、生产与销售。2020年5月31日互动平台讯,公司大股东长春光机所正在研发更高水 平的光刻机曝光系统。 21、西陇科学(002584):公司是一家专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售的高新技 术企业,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。 相关推荐 22、同益股份(300538):2019年3月13日公司互动平台披露博砚电子为宝通辰韬投资,该公司 是一家研发、生产光阻的厂家,主要产品为彩色滤光片用光阻黑色矩阵光阻、感光间隙材料,产品广 泛适用于液晶显示屏、印刷电路和集成电路以及印刷制版等。 23、广信材料(300537):2018年公司主营业务产品仍以光刻胶专用化学品为主,分为光刻胶用 光引发剂和光刻胶树脂两大系列。
『贰』 股票增值是什么意思啊是投资者的股票数量增多的意思吗
股票增值就是字面意思,股票的价值增加也可以说成是股票价格上涨,但是股市里,并不是所有的股票买入后都可以保证增值的,买入的股票错误了时机错误了也可以贬值,股价下跌。所以选择股票的时候谨慎点没坏处,不要老是头脑发热。
学会自己分析:K线分析和成交量分析是一个比较复杂的分析系统,但是学会了效率也是最高的。
『叁』 谐振功率放大器的高频功率放大器的技术指标
1.输出功率:PO
2.效率:η
3.功率增益:Ap
1.2 谐振功率放大器的工作原理
一、丙类谐振功率放大器电路
电路图如1-1所示
图1-1 丙类谐振功率放大器
LC谐振网络为放大器的并联谐振网络。
谐振网络的谐振频率为信号的中心频率。
作用:滤波、匹配。
VBB:基极直流电压
作用:保证三极管工作在丙类状态。
VBB的值应小于放大管的导通电压Uon;通常取VBB≤0。
VCC:集电极直流电压
作用:给放大管合理的静态偏置,提供直流能量。
二、丙类谐振功率放大器的工作原理
ui→uBE→iB→iC→uC
ui为余弦电压, 可表示为ui=UimCOSωct
则:uBE= VBB+ui= VBB+ UimCOSωct
根据三极管的转移特性可得到集电极电流iC,为余弦脉冲波,如图4-2所示:
图1-2 iC波形
根据傅立叶级数的理论,iC可分解为:
ic=Ico+iC1+iC2+iC3+………+iCn+………
式中:Ico为直流电流分量
iC1为基波分量;iC1=Icm1COSωct
iC2为二次谐波分量;iC2=Icm2COS2ωct
iCn为n次谐波分量;iCn=IcmnCOSnωct
其中,它们的大小分别为:
Ico=iCmax·α0(θ)
Icm1=iCmax·α1(θ)
Icmn=iCmax·αn(θ)
iCmax是ic波形的脉冲幅度。
αn(θ)的大小可根据余弦脉冲分解系数表查。
Ic信号的导电角可以用下面的公式进行计算
当iC信号通过谐振网络时,由于谐振网络的作用,可得其谐振网络压降为:
uc=RIcm1COSωct=UcmCOSωct
uCE=VCC-uc=VCC-UcmCOSωct
各信号的波形如图1-3所示:
图1-3 波形图
三、功率关系
直流功率:PV=VCCICO
输出功率:PO= Icm1Ucm
放大管功耗:PT=PV-PO
效率:η= PO/PV
丙类谐振功率放大器的性能分析
一、丙类谐振功率放大器的工作状态
欠压状态:管子导通时均处于放大区;
临界状态:管子导通时从放大区进入临界饱和;
过压状态:管子导通时将从放大区进入饱和区;
在实际工作中,丙类放大器的工作状态不但与Ubm有关,还与VCC、VBB和R有关。
在丙类谐振功放中,工作状态不同,放大器的输出功率和管耗就大不相同,因此必须分析各种工作状态的特点,以及Ubm、VCC、VBB和R的变化对工作状态的影响,即对丙类谐振功放的特性进行分析。
二、丙类谐振功率放大器的动态线
1.基本概念:
大信号的功率放大器一般采用图解法进行分析,为此就要在输出特性曲线上作出交流负载线。
由于谐振功放的集电极负载是谐振回路,且共集电极电压与集电极电流的波形截然不同,因此其交流负载线已不是直线了,是一条曲线,又称为动态线。
2.动态线的作法:
三极管的输出特性曲线转上的参变量iB换成uBE,在VBB、VCC、Ucm和Ubm保持不变的情况下,假设ωct取不同的值,根据式uBE=VBB+ UbmCOSωct和uCE=VCC-uc=VCC-UcmCOSωct可得以相对应的uBE和uCE值,从而确定输出特性曲线上的各个“动态点”,然后依次连接各个“动态点”就可以得到动态线。其图形如1-4所示。
图1-4 动态线
3.不同工作状态的动态线
如图1-5所示
图1-5 不同状态的动态线
丙类谐振功放在不同状态的动态线动画演示请点击
4.根据动态线分析放大器的特性
(1)放大器工作在过压状态时,ic波形会出现下凹。
(2)动态线、放大器的工作状态与VBB、VCC、Ucm和Ubm的大小有关系。
三、丙类谐振功率放大器的特性
负载特性:
基极调制特性:
调制特性
集电极调制特性:
放大特性:
1.负载特性:
负载特性是指放大器在VBB、VCC和Ubm不变时,随R变化的特性
(1)工作状态的变化
随着R从小变大,放大器将由欠压状态→临界状态→过压状态变化
(2)ic波形的变化
随着R增大,ic的变化如图1-6所示
图1-6 ic随R变化的特性
(3)Ucm、Ico、Icm1的变化特性
如图1-7所示
图1-7 Ucm、Ico、Icm1随R的变化
(4)PO、PV、Pc、η的变化特性
如图1-8所示
图1-8 PO、PV、Pc、η的变化特性
负载特性动画演示请点击
2.基极调制特性
基极调制特性是指放大器在R、VCC和Ubm不变时,随VBB变化的特性
(1)工作状态的变化
随着VBB从小变大,放大器将由欠压状态→临界状态→过压状态变化
(2)ic波形的变化
如图4-9所示
图1-9 ic随VBB的变化特性 (3)Ucm、Ico、Icm1的变化特性 如图1-10所示
图1-10 Ucm、Ico、Icm1的变化特性
基极调制特性动画演示请点击
3.集电极调制特性
集电极调制特性是指放大器在VBB、R和Ubm不变时,随VCC变化的特性
(1)工作状态的变化
随着VCC从小变大,放大器将由过压状态→临界状态→欠压状态变化
(2)ic波形的变化
如图1-11所示
图1-11 ic随VCC变化的特性
(3)Ucm、Ico、Icm1的变化特性
如图1-12所示
图1-12 Ucm、Ico、Icm1的变化特性
集电极调制特性动画演示请点击
4.放大特性
放大特性是指放大器在VBB、VCC和R不变时,随Ubm变化的特性
(1)工作状态的变化
随着Ubm从小变大,放大器将由欠压状态→临界状态→过压状态变化
(2)ic波形的变化
如图1-13所示
图1-13 ic随Ubm的变化特性
(3)Ucm、Ico、Icm1的变化特性
如图1-14所示
图1-14 Ucm、Ico、Icm1的变化特性
基极调制特性动画演示请点击
『肆』 管理会计本量利分析
本量利分析是成本、业务量和利润三者依存关系分析的简称,它是指在成本习性分析的基础上,运用数学模型和图式,对成本、利润、业务量与单价等因素之间的依存关系进行具体的分析,研究其变动的规律性,以便为企业进行经营决策和目标控制提供有效信息的一种方法。
在进行本量利分析时,应明确认识下列基本关系:
1.在销售总成本已定的情况下,盈亏临界点的高低取决于单位售价的高低。单位售价越高,盈亏临界点越低;单位售价越低,盈亏临界点越高。
2.在销售收入已定的情况下,盈亏临界点的高低取决于固定成本和单位变动成本的高低。固定成本越高,或单位变动成本越高,则盈亏临界点越高;反之,盈亏临界点越低。
3.在盈亏临界点不变的前提下,销售量越大,企业实现的利润便越多(或亏损越少);销售量越小,企业实现的利润便越少(或亏损越多)。
4.在销售量不变的前提下,盈亏临界点越低,企业能实现的利润便越多(或亏损越少);盈亏临界点越高,企业能实现的利润便越少(或亏损越多)。
贡献毛益是指产品的销售收入扣除变动成本之后的金额,表明该产品为企业作出的贡献,也称贡献边际(contribution
margin),边际利润或创利额,是用来衡量产品盈利能力的一项重要指标。由于变动成本又分为制造产品过程中发生的变动生产成本和非制造产品过程中发生的变动非生产成本,所以贡献毛益也可以分为制造贡献毛益和营业贡献毛益两种,本书中如无特别说明,贡献毛益就是指扣除了全部变动成本的营业贡献毛益。
贡献毛益可以用总额形式表示,也可以用单位贡献毛益和贡献毛益率形式表示。
(一)单位贡献毛益
单位贡献毛益(unit contribution margin,UCM)是指单位产品售价与单位变动成本的差额。用公式表示为:
单位贡献毛益=销售单价-单位变动成本,即:UCM=p-b
该指标反映每销售一件产品所带来的贡献毛益。
(二)贡献毛益率
贡献毛益率(contribution margin
rate,CMR)是指贡献毛益总额占销售收入总额的百分比,或单位贡献毛益占单价的百分比。用公式表示为:
贡献毛益率=贡献毛益总额/销售收入总额×100%=单位贡献毛益/销售单价×100%,即:
该指标反映每百元销售收入所创造的贡献毛益。
与贡献毛益率相关的另一个指标是变动成本率(variable cost
rate,VCR)。变动成本率是指变动成本总额占销售收入总额的百分比或单位变动成本占单价的百分比。用公式表示为:
变动成本率=变动成本总额/销售收入总额×100%=单位变动成本/单价×100%,即:
将变动成本率与贡献毛益率两个指标联系起来,可以得出:
贡献毛益率+变动成本率=1,由此可以推出,
贡献毛益率=1-变动成本率,或
变动成本率=1-贡献毛益率
可见,变动成本率与贡献毛益率两者是互补的。企业变动成本率越高,贡献毛益率就越低,变动成本率越低,其贡献毛益率必然越高。